第90章 这就是自动化规范化的魔力【求全（1 / 2）

DUV光刻机技术难点还是不少的。

像是镜头制造方面，它要求的是极高的光学精度，镜头设计和制造过程中是绝不允许有任何微小的误差的。

此外就是光源和光路系统也是一个大难点。

DUV光刻机采用的是准分子激光作为光源，这个光源系统还是比较容易搞定的。但光路系统的设置要求十分的精细，它要设置很复杂的折射光路，来达到让光线纯化的目的，为了提高分辨率，后来还要采用水浸法，即在投射透镜和晶圆之间填入去离子水，这就对系统的稳定性和精度有了非常高的要求。

为了造出合格的DUV光刻机，张红卫在次元训练空间的实验室里做了大量的实验，最终这才搞定了光源系统和光路系统。

不过，现在，还有一个难题需要解决，那就是：想要在现实中造出高精密度的DUV光刻机，还需要有优质的先进制程的处理器芯片和传感器。

这就意味着，张红卫要造出纳米级的单片机处理器，还要编写一个单片机操作系统。

这同样也是一个大难题。

在不断的学习和实践中，张红卫现在的编程技术自然是没有太大的问题的。

如今，最难的就是造出先进制程的纳米级芯片。